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蚀刻机和光刻机有甚么区分?

前往列表 来历:华谊智能科技 宣布日期:2019-05-23 16:33:46 点击:

    zui近光刻机和蚀刻机一向都是以后zui热的话题,能够说光刻机是芯片建造的魂,蚀刻机是芯片建造的魄,要想建造高真个芯片,这两个工具都必须顶尖。

    这俩机械zui简略的诠释便是光刻机把电路图投影到笼盖有光刻胶的硅片下面,刻蚀机再把适才画了电路图的硅片上的过剩电路图侵蚀掉,如许看起来仿佛没甚么难的,可是有一个抽象的比喻,每块芯片下面的电路布局缩小有数倍来看比全部北都门庞杂,这便是这光刻和蚀刻的难度。
    光刻的进程便是此刻建造好的硅圆外表涂上一层光刻胶(一种能够被光侵蚀的胶状物资),接上去经由进程光芒(工艺难度紫外光<深紫外光<极紫外光)透过掩膜照耀到硅圆外表(近似投影),由于光刻胶的笼盖,照耀到的局部被侵蚀掉,不光照的局部被留上去,这局部便是须要的电路布局。
    蚀刻分为两种,一种是干刻,一种是湿刻(今朝支流),望文生义,湿刻便是进程中有水插手,将下面颠末光刻的晶圆与特定的化学溶液反映,去掉不须要的局部,剩下的便是电路布局了,干刻今朝还不完成贸易量产,其道理是经由进程等离子体取代化学溶液,去除不须要的硅圆局部。
蚀刻机

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